场发射扫描电镜
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- 更新日期:2023-03-20
- 产品介绍:Quattro场发射扫描电镜的场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。
- 厂商性质:代理商
产品介绍
品牌 | FEI/赛默飞 | 产地类别 | 进口 |
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价格区间 | 面议 | 仪器种类 | 场发射 |
应用领域 | 化工,石油 |
场发射扫描电镜Quattro SEM特点与用途:
在自然状态下对材料进行预案为研究,具有环境真空模式(ESEM)的高分辨率场发射扫描电镜;
缩短样品制备时间:低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析,样品表面无荷电累积;
在各种操作模式下分析导电和不导电样品,同步获取二次电子像和背散射电子像;
优良的分析性能,样品仓可同时安装3三个EDS探测器,其中2个EDS端口分开180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
针对不导电样品的分析性能:凭借“压差真空系统"实现低真空模式下的EDS和EBSD分析;
灵活、准确的优中心样品台,105°倾斜角度范围,可多方位观察样品;
软件直观、简便易用,并配置用户向导及Undo(撤销)功能,操作步骤减少,分析更快速;
全新创新选项,包括可伸缩RGB阴极荧光(CL)探测器、1100℃高真空热台和AutoScript。
金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质样品断面、矿物
软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
水合/脱水/湿润/接触角分析
结晶/相变
氧化/催化
材料生成
拉伸(伴随加热或冷却)
发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪
分辨率:
型号 | Quattro C | Quattro S |
高真空 | ||
30kV(SE) | 1.0nm | |
1kV(SE) | 3.0nm | |
低真空 | ||
30kV(SE) | 1.3nm | |
3kV(SE) | 3.0nm | |
30kV(BSE) | 2.5nm | |
环境扫描模式 | ||
30kV(SE) | 1.3nm |
放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速电压范围:200V ~ 30kV
探针电流范围:1pA – 200nA,连续可调
X-Ray工作距离:10mm,EDS检出角35°
样品室:从左至右为340mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置)
样品台和样品:
探测器系统:
同步检测多达四种信号,包括
样品室高真空二次电子探测器ETD
低真空二次电子探测器LVD
气体SED(GSED,用于环境扫描模式)
样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)
可用于样品导航的彩色光学相机Nav-Cam™
控制系统:
操作系统:64为GUI(Windows10)、键盘、光学鼠标
图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200
定制化的图像用户界面,可同时激活多达4个视图
导航蒙太奇
软件支持Undo和Redo功能
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