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场发射扫描电镜

场发射扫描电镜

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  • 更新日期:2023-03-20
  • 产品介绍:Quattro场发射扫描电镜的场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。
  • 厂商性质:代理商

产品介绍

品牌FEI/赛默飞产地类别进口
价格区间面议仪器种类场发射
应用领域化工,石油

场发射扫描电镜Quattro SEM特点与用途:

    在自然状态下对材料进行预案为研究,具有环境真空模式(ESEM)的高分辨率场发射扫描电镜

    缩短样品制备时间:低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析,样品表面无荷电累积;
    在各种操作模式下分析导电和不导电样品,同步获取二次电子像和背散射电子像;
    优良的分析性能,样品仓可同时安装3三个EDS探测器,其中2个EDS端口分开180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
    针对不导电样品的分析性能:凭借“压差真空系统"实现低真空模式下的EDS和EBSD分析;
    灵活、准确的优中心样品台,105°倾斜角度范围,可多方位观察样品;
    软件直观、简便易用,并配置用户向导及Undo(撤销)功能,操作步骤减少,分析更快速;
    全新创新选项,包括可伸缩RGB阴极荧光(CL)探测器、1100℃高真空热台和AutoScript。


金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质样品断面、矿物
软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
水合/脱水/湿润/接触角分析
结晶/相变
氧化/催化
材料生成
拉伸(伴随加热或冷却)


发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪

分辨率:

型号

Quattro C

Quattro S

高真空

30kV(SE)

1.0nm

1kV(SE)

3.0nm

低真空

30kV(SE)

1.3nm

3kV(SE)

3.0nm

30kV(BSE)

2.5nm

环境扫描模式

30kV(SE)

1.3nm


放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速电压范围:200V ~ 30kV
探针电流范围:1pA – 200nA,连续可调
X-Ray工作距离:10mm,EDS检出角35°
样品室:从左至右为340mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置)


样品台和样品:


探测器系统:

同步检测多达四种信号,包括

样品室高真空二次电子探测器ETD
低真空二次电子探测器LVD
气体SED(GSED,用于环境扫描模式)
样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)
可用于样品导航的彩色光学相机Nav-Cam™


控制系统:
操作系统:64为GUI(Windows10)、键盘、光学鼠标
图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200
定制化的图像用户界面,可同时激活多达4个视图
导航蒙太奇
软件支持Undo和Redo功能



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