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场发射扫描电镜

场发射扫描电镜

  • 访问量:138
  • 产品日期:2020-10-13
  • 产品介绍:场发射扫描电镜广泛用于材料科学(金属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害(火灾、失效分析)鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。
  • 厂商性质:代理商

产品介绍

品牌其他品牌价格区间面议
仪器种类冷场发射应用领域医疗卫生,化工,生物产业,电子

蔡司场发射扫描电镜SIGMA 500详细描述:

 

 品牌:卡尔·蔡司

 型号:SIGMA 500

 制造商:德国卡尔蔡司公司

 经销商:欧波同有限公司

 

  

 

【品牌故事】 

     世界可见光及电子光学的领军企业——德国蔡司公司始创于1846年。其 电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和Zeiss。积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验,电子光学成像技术在世界上创造了数个里程碑:

    -与AEG公司合作实现了透射电子显微镜的商业化(1949)
    -陆续推出的EM9型电子显微镜是世界上首台具有自动曝光控制的电磁式
    -透射电子显微镜TEM(1956)
    -推出EM902型配用Castaing-Henry过滤器商用电子显微镜,用户利用
    -该种新产品能够得到高分辨率元素分布图片(1984)
    -配用静电电磁物镜(Gemini技术)的场发射扫描电子显微镜DSM982
    -Gemini投放市场(1993)
    -推出具有Koehler照明的200KV场发射透射电镜(2003)
    -推出具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的设计,融合欧洲至上的制造工艺, 造就了该品牌在光电子领域的领军地位。自成立至今,一直延续不 断创新的传统,公司拥有广泛的专有技术,随着离子束技术和基于电子束的 分析技术的加入,可为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案。其产品的高性能、 高质量、高可靠性和稳定性已得到世界范围内广大用户的信赖与认可。

    作为一家电子光学产品提供商,我们将为您提供完善的纳米技术解决方案,并且以专业化的手段让您的投资物有所值。无论您是企业还是科研机构,卡尔 蔡司在高质量电子光学系统方面优良的传统都会为您的业绩做出积极的贡献。

 

【核心技术】
        
蔡司公司推出的Sigma 500场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,分辨率超过0.8nm,为您提供you秀分辨率和分析性能科研平台。Sigma500专注于yi流的EDS几何学设计使您可以获取精湛的分析性能。借助Sigma直观便捷的四步工作流程可以快速成像、简化分析程序、提高工作效率。您会比以往更快、更多的获取数据。多种探测器的选择使Sigma500可以准的匹配您的应用程序:您可以获取微小粒子、表面、纳米结构、薄膜、涂层和多层的图像信息。

 

 蔡司扫描电镜技术参数】

分辨率:0.8nm@30kV STEM 

                 0.8nm @15 kV   

                 1.4 nm @1kV

放大倍数:10-1,000,000×

加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)

探针电流: 3pA~20nA(100nA选配)  稳定性优于 0.2%/h

低真空范围:2-133Pa(Sigma 500VP可用)

样品室: 358 mm(φ),270.5 mm(h)

样品台:5轴优中心全自动
               
                 X=130mm
                 Y=130mm
                 Z=50mm
                 T=-4°-70°
                 R=360°

 

系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

存储分辨率:32k x 24k pixels

 

 

【产品应用】   
        
场发射扫描电镜广泛用于材料科学(金属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害(火灾、失效分析)鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域,进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体/晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。

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